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校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場進(jìn)行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

西塞羅的著作《論共和國》，一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對話錄，提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器，可以預(yù)測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造，在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后，這兩臺機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫斯·克勞迪烏斯·馬...

世界三 大光刻機(jī) 生產(chǎn)商ASML，Nikon和Cannon的*** 代 浸 沒 式 光 刻 機(jī) 樣 機(jī) 都 是 在 原 有193nm干式光刻機(jī)的基礎(chǔ)上改進(jìn)研制而成，**降低了研發(fā)成本和風(fēng)險(xiǎn)。因?yàn)榻]式光刻系統(tǒng)的原理清晰而且配合現(xiàn)有的光刻技術(shù)變動(dòng)不大，目前193...

38、卸料螺釘卸料螺釘是固定在彈壓卸料板上的螺釘，用于限制彈壓卸料板的靜止位置。39、單工序模單工序模是在壓力機(jī)一次行程中只完成一道工序的沖模。40、廢料切刀廢料切刀有兩種。1．裝于拉深件凸緣切邊模上用于割斷整圈切邊廢料以利***的切刀。2．裝于壓力機(jī)或模具上...

11、導(dǎo)柱導(dǎo)柱是為上、下模座相對運(yùn)動(dòng)提供精密導(dǎo)向的圓柱形零件，多數(shù)固定在下模座，與固定在上模座的導(dǎo)套配合使用。12、導(dǎo)正銷導(dǎo)正銷是伸入材料孔中導(dǎo)正其在凹模內(nèi)位置的銷形零件。13、導(dǎo)板模導(dǎo)板模是以導(dǎo)板作導(dǎo)向的沖模，模具使用時(shí)凸模不脫離導(dǎo)板。14、導(dǎo)料板導(dǎo)料板是引...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后，1951年英國科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機(jī)械進(jìn)行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標(biāo)題“時(shí)鐘以前的發(fā)條裝置”（Clockwork before the Clock）和“發(fā)條裝置的由來”（O...

長焦距鏡頭是指比標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的焦距長的攝影鏡頭。長焦距鏡頭分為普通遠(yuǎn)攝鏡頭和超遠(yuǎn)攝鏡頭兩類。普通遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距長度接近標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，而超遠(yuǎn)攝鏡頭的焦距卻遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭。以135照相機(jī)為例，其鏡頭焦距從85毫米-300毫米的攝影鏡頭為普通遠(yuǎn)攝鏡頭，300毫米以上的為超...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問題。針 對 這 些 難 ...

EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下的特征尺寸。根據(jù)瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高的光刻分辨率。換個(gè)角度講，使用193i與EUV光刻機(jī)曝同一個(gè)...

EUV光刻系統(tǒng)的發(fā)展歷經(jīng)應(yīng)用基礎(chǔ)研究至量產(chǎn)四個(gè)階段，其突破得益于多元主體協(xié)同創(chuàng)新和全產(chǎn)業(yè)鏈資源整合 [3]。截至2024年12月，EUV技術(shù)已應(yīng)用于2nm芯片量產(chǎn)，但仍需優(yōu)化光源和光刻膠性能。下一代技術(shù)如納米壓印和定向自組裝正在研發(fā)中 [6]。**光刻系統(tǒng)主要...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后，1951年英國科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機(jī)械進(jìn)行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標(biāo)題“時(shí)鐘以前的發(fā)條裝置”（Clockwork before the Clock）和“發(fā)條裝置的由來”（O...

早在80年代，極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實(shí) 驗(yàn)，該技術(shù) 的光源是波 長 為11～14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光，其原理主要是利用曝光光源極短的波長達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)材料對該波長的光有強(qiáng)烈的吸收，所以只能采取反射式的光路。EU...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動(dòng)的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷（板）固定擋料銷（板）是在模具內(nèi)固定不動(dòng)的擋料銷（板）。(參閱“擋料銷（板）”)。36、卸件器卸件器是從凸模外表面卸脫工（序）...

舉例來說，對某一確定的被攝體，水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié)，如果成像寬度為10mm，則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任，如果成像寬度為1mm，則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米以上。另一方面，傳統(tǒng)膠卷對紫外線比較敏感，外拍時(shí)常需要加裝U...

此前人們認(rèn)為該裝置是古希臘人使用的一種計(jì)算器，用來描繪天空中行星的運(yùn)行軌跡，以幫助當(dāng)時(shí)的人識別方向。然而，科學(xué)家們現(xiàn)在**了這部裝置表面破損的銘文后發(fā)現(xiàn)，它實(shí)際上是用來研究**的。安提基特拉機(jī)械裝置是其同時(shí)代的一個(gè)孤例。它憑一己之力改寫了我們對古希臘技術(shù)的認(rèn)知...

光致抗蝕劑，簡稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無毒性等...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

魚眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí)，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺，且由于魚眼鏡頭重量不輕（如尼柯爾6毫米/F2.8手動(dòng)對焦魚眼鏡頭重達(dá)5200克），...

廣角鏡頭又稱短鏡頭。攝影輔助鏡頭的一種。鏡頭焦距***地小于像場直徑(底片對角線長度)，約為6～35毫米;視角大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，約為53°以上直至220°。相對口徑一般較小。廣角透鏡在十九世紀(jì)六十年代快直光鏡頭出現(xiàn)后即產(chǎn)生，此后經(jīng)種種演變，已成攝影鏡頭中一個(gè)重要類...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時(shí)，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時(shí)，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí)，會產(chǎn)生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

使用長焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)：一是視角小。所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體。二是景深短。所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào)焦帶來了一定的困...

能強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比。這是廣角鏡頭的另一個(gè)重要性能。所謂強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強(qiáng)調(diào)近大遠(yuǎn)小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠(yuǎn)的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產(chǎn)生強(qiáng)烈的******效果。...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長取決...

能強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比。這是廣角鏡頭的另一個(gè)重要性能。所謂強(qiáng)調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比，是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強(qiáng)調(diào)近大遠(yuǎn)小的對比度。也就是說，用廣角鏡頭拍出來的照片，近的東西更大，遠(yuǎn)的東西更小，從而讓人感到拉開了距離，在縱深方向上產(chǎn)生強(qiáng)烈的******效果。...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

2006年時(shí)，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...