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實時成像微光顯微鏡成像儀

來源: 發(fā)布時間:2025-07-14

EMMI的本質(zhì)只是一臺光譜范圍廣,光子靈敏度高的顯微鏡。

但是為什么EMMI能夠應(yīng)用于IC的失效分析呢?

原因就在于集成電路在通電后會出現(xiàn)三種情況:1.載流子復(fù)合;2.熱載流子;3.絕緣層漏電。當(dāng)這三種情況發(fā)生時集成電路上就會產(chǎn)生微弱的熒光,這時EMMI就能捕獲這些微弱熒光,這就給了EMMI一個應(yīng)用的機會而在IC的失效分析中,我們給予失效點一個偏壓產(chǎn)生熒光,然后EMMI捕獲電流中產(chǎn)生的微弱熒光。原理上,不管IC是否存在缺陷,只要滿足其機理在EMMI下都能觀測到熒光 微光顯微鏡支持寬光譜探測模式,探測范圍從紫外延伸至近紅外,能滿足不同材料的光子檢測,適用范圍更廣。實時成像微光顯微鏡成像儀

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我司專注于微弱信號處理技術(shù)的深度開發(fā)與場景化應(yīng)用,憑借深厚的技術(shù)積累,已成功推出多系列失效分析檢測設(shè)備及智能化解決方案。更懂本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的需求,軟件界面貼合工程師操作習(xí)慣,無需額外適配成本即可快速融入產(chǎn)線流程。

性價比優(yōu)勢直擊痛點:相比進口設(shè)備,采購成本降低 30% 以上,且本土化售后團隊實現(xiàn) 24 小時響應(yīng)、48 小時現(xiàn)場維護,備件供應(yīng)周期縮短至 1 周內(nèi),徹底擺脫進口設(shè)備 “維護慢、成本高” 的困境。用國產(chǎn)微光顯微鏡,為芯片質(zhì)量把關(guān),讓失效分析更高效、更經(jīng)濟、更可控! 制冷微光顯微鏡聯(lián)系人我司自主研發(fā)的桌面級設(shè)備其緊湊的機身設(shè)計,可節(jié)省實驗室空間,適合在小型研發(fā)機構(gòu)或生產(chǎn)線上靈活部署。

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失效分析是指通過系統(tǒng)的檢測、實驗和分析手段,探究產(chǎn)品或器件在設(shè)計、生產(chǎn)、使用過程中出現(xiàn)故障、性能異?;蚴У母驹?,進而提出改進措施以預(yù)防同類問題再次發(fā)生的技術(shù)過程。它是連接產(chǎn)品問題與解決方案的關(guān)鍵環(huán)節(jié),**在于精細定位失效根源,而非*關(guān)注表面現(xiàn)象。在半導(dǎo)體行業(yè),失效分析具有不可替代的應(yīng)用價值,貫穿于芯片從研發(fā)到量產(chǎn)的全生命周期。

在研發(fā)階段,針對原型芯片的失效問題(如邏輯錯誤、漏電、功耗過高等),通過微光顯微鏡、探針臺等設(shè)備進行失效點定位,結(jié)合電路仿真、材料分析等手段,可追溯至設(shè)計缺陷(如布局不合理、時序錯誤)或工藝參數(shù)偏差,為芯片設(shè)計優(yōu)化提供直接依據(jù);在量產(chǎn)環(huán)節(jié),當(dāng)出現(xiàn)批量性失效時,失效分析能快速判斷是光刻、蝕刻等制程工藝的穩(wěn)定性問題,還是原材料(如晶圓、光刻膠)的質(zhì)量波動,幫助生產(chǎn)線及時調(diào)整參數(shù),降低報廢率;在應(yīng)用端,針對芯片在終端設(shè)備(如手機、汽車電子)中出現(xiàn)的可靠性失效(如高溫環(huán)境下性能衰減、長期使用后的老化失效),通過環(huán)境模擬測試、失效機理分析,可推動芯片在封裝設(shè)計、材料選擇上的改進,提升產(chǎn)品在復(fù)雜工況下的穩(wěn)定性。

漏電是芯片另一種常見的失效模式,其誘因復(fù)雜多樣,既可能源于晶體管長期工作后的老化衰減,也可能由氧化層存在裂紋等缺陷引發(fā)。

與短路類似,芯片內(nèi)部發(fā)生漏電時,漏電路徑中會伴隨微弱的光發(fā)射現(xiàn)象——這種光信號的強度往往遠低于短路產(chǎn)生的光輻射,對檢測設(shè)備的靈敏度提出了極高要求。EMMI憑借其的微光探測能力,能夠捕捉到漏電產(chǎn)生的極微弱光信號。通過對芯片進行全域掃描,可將漏電區(qū)域以可視化圖像的形式清晰呈現(xiàn),使工程師能直觀識別漏電位置與分布特征。


微光顯微鏡能檢測半導(dǎo)體器件微小缺陷和失效點,及時發(fā)現(xiàn)隱患,保障設(shè)備可靠運行、提升通信質(zhì)量。

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致晟光電作為專注于微光顯微鏡與熱紅外顯微鏡應(yīng)用的技術(shù)團隊,設(shè)備在微小目標定位、熱分布成像等場景中具備高分辨率優(yōu)勢,可廣泛應(yīng)用于芯片、PCB板、顯示屏等消費電子元器件的檢測環(huán)節(jié),為您提供客觀的物理位置或熱分布定位數(shù)據(jù)。

為讓您更直觀了解設(shè)備的定位精度與適用性,我們誠摯邀請貴單位參與樣品測試合作:若您有需要進行微光定位(如細微結(jié)構(gòu)位置標記、表面瑕疵定位)或熱紅外定位(如元器件發(fā)熱點分布、溫度梯度成像)的樣品,可郵寄至我方實驗室。我們將提供專業(yè)檢測服務(wù),輸出包含圖像、坐標、數(shù)值等在內(nèi)的定位數(shù)據(jù)報告(注:報告呈現(xiàn)客觀檢測結(jié)果,不做定性或定量結(jié)論判斷)。測試過程中,我們會根據(jù)您的需求調(diào)整檢測參數(shù),確保定位數(shù)據(jù)貼合實際應(yīng)用場景。若您對設(shè)備的定位效果認可,可進一步洽談設(shè)備采購或長期檢測服務(wù)合作。 我司團隊改進算法等技術(shù),整合出 EMMI 芯片漏電定位系統(tǒng),價低且數(shù)據(jù)整理準、操作便,性價比高,居行業(yè)先頭。IC微光顯微鏡24小時服務(wù)

漏電結(jié)和接觸毛刺會產(chǎn)生亮點,這些亮點產(chǎn)生的光子能被微光顯微鏡捕捉到。實時成像微光顯微鏡成像儀

致晟光電 RTTLIT E20 微光顯微分析系統(tǒng)(EMMI)是一款專為半導(dǎo)體器件漏電缺陷檢測量身打造的高精度檢測設(shè)備。該系統(tǒng)搭載先進的 - 80℃制冷型 InGaAs 探測器與高分辨率顯微物鏡,憑借超高檢測靈敏度,可捕捉器件在微弱漏電流信號下產(chǎn)生的極微弱微光。通過超高靈敏度成像技術(shù),設(shè)備能快速定位漏電缺陷并開展深度分析,為工程師優(yōu)化生產(chǎn)工藝、提升產(chǎn)品可靠性提供關(guān)鍵支持,進而為半導(dǎo)體器件的質(zhì)量控制與失效分析環(huán)節(jié)提供安全可靠的解決方案。實時成像微光顯微鏡成像儀

蘇州致晟光電科技有限公司是一家有著先進的發(fā)展理念,先進的管理經(jīng)驗,在發(fā)展過程中不斷完善自己,要求自己,不斷創(chuàng)新,時刻準備著迎接更多挑戰(zhàn)的活力公司,在江蘇省等地區(qū)的機械及行業(yè)設(shè)備中匯聚了大量的人脈以及客戶資源,在業(yè)界也收獲了很多良好的評價,這些都源自于自身的努力和大家共同進步的結(jié)果,這些評價對我們而言是最好的前進動力,也促使我們在以后的道路上保持奮發(fā)圖強、一往無前的進取創(chuàng)新精神,努力把公司發(fā)展戰(zhàn)略推向一個新高度,在全體員工共同努力之下,全力拼搏將共同蘇州致晟光電科技供應(yīng)和您一起攜手走向更好的未來,創(chuàng)造更有價值的產(chǎn)品,我們將以更好的狀態(tài),更認真的態(tài)度,更飽滿的精力去創(chuàng)造,去拼搏,去努力,讓我們一起更好更快的成長!