在電子產(chǎn)業(yè)的半導(dǎo)體材料檢測(cè)中，電激勵(lì)的鎖相熱成像系統(tǒng)用途，為半導(dǎo)體材料的質(zhì)量提升提供了重要保障。半導(dǎo)體材料的質(zhì)量直接影響半導(dǎo)體器件的性能，材料中存在的摻雜不均、位錯(cuò)、微裂紋等缺陷，會(huì)導(dǎo)致器件的電學(xué)性能和熱學(xué)性能下降。通過對(duì)半導(dǎo)體材料施加電激勵(lì)，使材料內(nèi)部產(chǎn)生電流，缺陷處由于導(dǎo)電性能和導(dǎo)熱性能的異常，會(huì)產(chǎn)生局部的溫度差異。鎖相熱成像系統(tǒng)能夠敏銳地檢測(cè)到這些溫度差異，并通過分析溫度場(chǎng)的分布特征，評(píng)估材料的質(zhì)量狀況。例如，在檢測(cè)硅晶圓時(shí)，系統(tǒng)可以發(fā)現(xiàn)晶圓表面的摻雜不均區(qū)域，這些區(qū)域會(huì)影響后續(xù)芯片制造的光刻和刻蝕工藝；在檢測(cè)碳化硅材料時(shí)，能夠識(shí)別出材料內(nèi)部的微裂紋，這些裂紋會(huì)導(dǎo)致器件在高壓工作時(shí)發(fā)生擊穿。檢測(cè)結(jié)果為半導(dǎo)體材料生產(chǎn)企業(yè)提供了詳細(xì)的質(zhì)量反饋，幫助企業(yè)優(yōu)化材料生長(zhǎng)工藝，提升電子產(chǎn)業(yè)上游材料的品質(zhì)。高靈敏度紅外相機(jī)（ mK 級(jí)），需滿足高幀率（至少為激勵(lì)頻率的 2 倍，遵循采樣定理）以捕捉周期性溫度變化。熱發(fā)射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統(tǒng)P10

在電子產(chǎn)業(yè)中，電激勵(lì)與鎖相熱成像系統(tǒng)的結(jié)合為電子元件檢測(cè)帶來了前所未有的高效解決方案。電激勵(lì)的原理是向電子元件施加特定頻率的周期性電流，利用電流通過導(dǎo)體時(shí)產(chǎn)生的焦耳效應(yīng)，使元件內(nèi)部產(chǎn)生均勻且可控的熱量。當(dāng)元件存在短路、虛焊、內(nèi)部裂紋等缺陷時(shí)，缺陷區(qū)域的熱傳導(dǎo)特性會(huì)與正常區(qū)域產(chǎn)生明顯差異，進(jìn)而導(dǎo)致溫度分布出現(xiàn)異常。鎖相熱成像系統(tǒng)憑借其高靈敏度的紅外探測(cè)能力和先進(jìn)的鎖相處理技術(shù)，能夠捕捉這些細(xì)微的溫度變化，即使是微米級(jí)的缺陷也能被清晰識(shí)別。與傳統(tǒng)的探針檢測(cè)或破壞性檢測(cè)方法相比，這種非接觸式的檢測(cè)方式無需拆解元件，從根本上避免了對(duì)元件的損傷，同時(shí)還能實(shí)現(xiàn)大批量元件的快速檢測(cè)。例如，在手機(jī)芯片的批量質(zhì)檢中，該系統(tǒng)可在幾分鐘內(nèi)完成數(shù)百片芯片的檢測(cè)，提升了電子產(chǎn)業(yè)質(zhì)檢環(huán)節(jié)的效率和產(chǎn)品的可靠性。IC鎖相紅外熱成像系統(tǒng)平臺(tái)電激勵(lì)模式多樣，適配鎖相熱成像系統(tǒng)不同需求。

鎖相熱成像系統(tǒng)在發(fā)展過程中也面臨著一些技術(shù)難點(diǎn)，其中如何優(yōu)化熱激勵(lì)方式與信號(hào)處理算法是問題。熱激勵(lì)方式的合理性直接影響檢測(cè)的靈敏度和準(zhǔn)確性，不同的被測(cè)物體需要不同的激勵(lì)參數(shù)；而信號(hào)處理算法則決定了能否從復(fù)雜的信號(hào)中有效提取出有用信息。為此，研究人員不斷進(jìn)行探索和創(chuàng)新，通過改進(jìn)光源調(diào)制頻率，使其更適應(yīng)不同檢測(cè)場(chǎng)景，開發(fā)多頻融合算法，提高信號(hào)處理的效率和精度等方式，持續(xù)提升系統(tǒng)的檢測(cè)速度與缺陷識(shí)別精度。未來，隨著新型材料的研發(fā)和傳感器技術(shù)的不斷進(jìn)步，鎖相熱成像系統(tǒng)的性能將進(jìn)一步提升，其應(yīng)用領(lǐng)域也將得到的拓展，為更多行業(yè)帶來技術(shù)革新。

OBIRCH與EMMI技術(shù)在集成電路失效分析領(lǐng)域中扮演著互補(bǔ)的角色，其主要差異體現(xiàn)在檢測(cè)原理及應(yīng)用領(lǐng)域。具體而言，EMMI技術(shù)通過光子檢測(cè)手段來精確定位漏電或發(fā)光故障點(diǎn)，而OBIRCH技術(shù)則依賴于激光誘導(dǎo)電阻變化來識(shí)別短路或阻值異常區(qū)域。這兩種技術(shù)通常被整合于同一檢測(cè)系統(tǒng)（即PEM系統(tǒng)）中，其中EMMI技術(shù)在探測(cè)光子發(fā)射類缺陷，如漏電流方面表現(xiàn)出色，而OBIRCH技術(shù)則對(duì)金屬層遮蔽下的短路現(xiàn)象具有更高的敏感度。例如，EMMI技術(shù)能夠有效檢測(cè)未開封芯片中的失效點(diǎn)，而OBIRCH技術(shù)則能有效解決低阻抗（<10 ohm）短路問題。檢測(cè)速度快，但鎖相熱紅外電激勵(lì)成像所得的位相圖不受物體表面情況影響，對(duì)深層缺陷檢測(cè)效果更好。

鎖相頻率越高，得到的空間分辨率則越高。然而，對(duì)于鎖相紅外熱成像系統(tǒng)來說，較高的頻率往往會(huì)降低待檢測(cè)的熱發(fā)射。這是許多 LIT系統(tǒng)的限制。RTTLIT系統(tǒng)通過提供一個(gè)獨(dú)特的系統(tǒng)架構(gòu)克服了這一限制，在該架構(gòu)中，可以在"無限"的時(shí)間內(nèi)累積更高頻率的 LIT 數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)采集持續(xù)延長(zhǎng)，數(shù)據(jù)分辨率提高。系統(tǒng)采集數(shù)據(jù)的時(shí)間越長(zhǎng)，靈敏度越高。當(dāng)試圖以極低的功率級(jí)采集數(shù)據(jù)或必須從弱故障模式中采集數(shù)據(jù)時(shí)，鎖相紅外熱成像RTTLIT系統(tǒng)的這一特點(diǎn)尤其有價(jià)值。電激勵(lì)激發(fā)缺陷熱特征，鎖相熱成像系統(tǒng)識(shí)別。紅外光譜鎖相紅外熱成像系統(tǒng)價(jià)格

高靈敏度鎖相熱成像技術(shù)能夠檢測(cè)到極微小的熱信號(hào)，可檢測(cè)低至uA級(jí)漏電流或微短路缺陷。熱發(fā)射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統(tǒng)P10

電激勵(lì)的參數(shù)設(shè)置對(duì)鎖相熱成像系統(tǒng)在電子產(chǎn)業(yè)的檢測(cè)效果有著決定性的影響，需要根據(jù)不同的檢測(cè)對(duì)象進(jìn)行精細(xì)調(diào)控。電流大小的選擇尤為關(guān)鍵，必須嚴(yán)格適配電子元件的額定耐流值。如果電流過小，產(chǎn)生的熱量不足以激發(fā)明顯的溫度響應(yīng)，系統(tǒng)將難以捕捉到缺陷信號(hào)；

而電流過大則可能導(dǎo)致元件過熱損壞，造成不必要的損失。頻率的選擇同樣不容忽視，高頻電激勵(lì)產(chǎn)生的熱量主要集中在元件表面，適合檢測(cè)表層的焊接缺陷、線路斷路等問題；低頻電激勵(lì)則能使熱量滲透到元件內(nèi)部，可有效探測(cè)深層的結(jié)構(gòu)缺陷，如芯片內(nèi)部的晶格缺陷。在檢測(cè)復(fù)雜的集成電路時(shí)，技術(shù)人員往往需要通過多次試驗(yàn)，確定比較好的電流和頻率參數(shù)組合，以確保系統(tǒng)能夠清晰區(qū)分正常區(qū)域和缺陷區(qū)域的溫度信號(hào)，從而保障檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。例如，在檢測(cè)高精度的傳感器芯片時(shí)，通常會(huì)采用低電流、多頻率的電激勵(lì)方式，以避免對(duì)芯片的敏感元件造成干擾。 熱發(fā)射顯微鏡鎖相紅外熱成像系統(tǒng)P10