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金相研磨拋光的自動(dòng)設(shè)備,兼具手動(dòng)模式,應(yīng)用靈活??删幊?,兼容自動(dòng)給液系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)全程自動(dòng)控制。以變徑環(huán)調(diào)整卡具尺寸,可同時(shí)夾持6個(gè)樣品,適用于各種材料的金相研磨和金相拋光。全自動(dòng)研磨拋光機(jī),可以使用手動(dòng)模式超大彩色觸摸屏,清晰,易于操作可以預(yù)設(shè)/存儲(chǔ)5組*12個(gè)步驟/組的程序,方便多種材料的研究自動(dòng)頭氣動(dòng)限位設(shè)定,在自動(dòng)模式下,使砂紙、拋光布的利用率更高磨盤轉(zhuǎn)速可調(diào),轉(zhuǎn)向可順時(shí)針或逆時(shí)針動(dòng)力頭轉(zhuǎn)速可調(diào),轉(zhuǎn)向可順時(shí)針或逆時(shí)針研磨、拋光后動(dòng)力頭可自動(dòng)復(fù)位冷卻水噴嘴可轉(zhuǎn)向、可伸縮兼容自動(dòng)給液系統(tǒng),自動(dòng)給液系統(tǒng)有拋光液回流功能,防止給液管堵塞簡(jiǎn)潔、方便的排水系統(tǒng)夾具可夾持6個(gè)樣品,直徑40mm防腐處理的碗型內(nèi)襯防腐處理的鋼體機(jī)身,堅(jiān)固耐用自帶防濺罩、防塵蓋中心壓力、單點(diǎn)壓力兩種運(yùn)行模式,可根據(jù)工況選擇合適的方式!試樣夾盤可快速裝卸轉(zhuǎn)換,靈活使用不同口徑夾盤!磁性盤設(shè)計(jì),支持快速換盤,墊板噴涂特氟龍,更換砂紙拋布無殘留!采用高清LCD觸摸屏操控和顯示,操作簡(jiǎn)便,清晰直觀!自動(dòng)研磨系統(tǒng),可定時(shí)定速,水系統(tǒng)自動(dòng)啟閉功能,有效代替手工磨拋!全自動(dòng)款可存儲(chǔ)十多種磨拋程序,針對(duì)不同試樣,設(shè)置不同的參數(shù)!賦耘檢測(cè)技術(shù)(上海)有限公司,金相研磨機(jī)。廣西單點(diǎn)加壓金相磨拋機(jī)拋光時(shí)間大概多久
丹麥Sturers公司研制的Abrapol一10型高科技自動(dòng)化立地式金相拋光機(jī)。試樣可以不經(jīng)鑲嵌裝在特殊夾具上,夾具由另一電動(dòng)機(jī)帶動(dòng),其轉(zhuǎn)動(dòng)方向與拋光盤相反。夾具與拋光盤之間的壓力可以在0一700N之間任意調(diào)節(jié)。當(dāng)?shù)竭_(dá)預(yù)定拋光時(shí)間后,夾具自動(dòng)抬起并停止。夾具的特點(diǎn)是能適應(yīng)各種形狀的試樣。對(duì)于線材及尺寸較小的棒材試樣,可把試樣分成三組,用厚鋼板及螺釘固定在夾具上,每組可裝20一40個(gè)線材試樣,對(duì)于較大試樣每個(gè)夾具可以裝6塊。夾具上試樣孔的設(shè)計(jì)是使樣品與夾具及固定螺釘始終保持三點(diǎn)接觸。如果兩個(gè)人使用3臺(tái)這種設(shè)備,可制備6至8個(gè)夾具試樣,實(shí)際上每個(gè)夾具試樣在3臺(tái)設(shè)備上的總有效時(shí)間總共只有6min,具有很高的拋光效率,而且試樣的拋光質(zhì)量能達(dá)到金相分析的要求。
廣西單點(diǎn)加壓金相磨拋機(jī)拋光時(shí)間大概多久賦耘磨拋機(jī)的基本分類及各類別的特點(diǎn)?
賦耘全自動(dòng)拋光機(jī)從粗拋到精拋整個(gè)過程全自動(dòng)完成,可以設(shè)置50個(gè)常用工作程序,操作界面友好,彩色液晶顯示,觸摸式操作,整個(gè)過程的每個(gè)工序之間都進(jìn)行夾持器和樣品的清洗與烘干,充分保證了樣品制備的高效與高制性,操作過程的全自動(dòng)化模式,節(jié)省了人工并提高了效率與質(zhì)量。試樣由拋光臂按照一定軌跡在拋光盤內(nèi)運(yùn)動(dòng),拋光臂上的壓力可根據(jù)需要調(diào)節(jié),比較大可達(dá)20N。在預(yù)定的拋光時(shí)間內(nèi),此壓力將逐漸自動(dòng)減小到零,這樣可減少拋光缺陷。拋光臂的速度也可以調(diào)節(jié),每道工序只需2~5min,適用于各種材料。
鎂和鎂合金由于基體硬度較低而沉淀相硬度較高,故而很難制備,這就很容易導(dǎo)致浮雕現(xiàn)象。切割、研磨或載荷太大可能造成機(jī)械巒晶。 終拋光和清潔操作,應(yīng)設(shè)法避免或 小限度使用水或者各種特定的溶液。純鎂會(huì)水侵蝕較慢,但鎂合金卻容易被水侵蝕。有些作者說,不要在任何制備步驟中用水,他們將1到3份的甘油混合到酒精中作為潤(rùn)滑劑,甚至在研磨制備步驟中都使用配制的甘油酒精混合液。切記研磨時(shí)一定要有冷卻劑,因?yàn)榧?xì)的鎂粉是火災(zāi)隱患。由于硬的金屬間化合物的出現(xiàn),浮雕可能很難控制,特別當(dāng)使用有絨拋光布時(shí)如此。下面介紹的是鎂和鎂合金的五步制備方法。金相磨拋機(jī)輔助夾持裝置。
金相研磨機(jī)磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選!大直徑的研磨盤會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如,轉(zhuǎn)速一樣時(shí),試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運(yùn)動(dòng)距離,分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運(yùn)動(dòng)距離。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時(shí),建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間要短,但耗材消耗稍多,所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,比較好不要超過500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些,因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕,有待精拋除去。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡,在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕,但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕。金相試樣拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu),已逐步引起有關(guān)人員的重視。近年來,國(guó)內(nèi)外在拋光機(jī)的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新機(jī)型、新一代的拋光設(shè)備,正由原來的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)拋光機(jī)。金相磨拋機(jī)的耗材(如磨拋盤、拋光液等)兼容性?湖北全自動(dòng)金相磨拋機(jī)替代ATM
賦耘磨拋機(jī)的維護(hù)周期及重點(diǎn)維護(hù)項(xiàng)目?廣西單點(diǎn)加壓金相磨拋機(jī)拋光時(shí)間大概多久
金相研磨機(jī)磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選!大直徑的研磨盤會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如,轉(zhuǎn)速一樣時(shí),試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運(yùn)動(dòng)距離,分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運(yùn)動(dòng)距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時(shí),傳統(tǒng)控制方法對(duì)于復(fù)雜性、不確定性、突變性所帶來的問題總有些力不從心。為了適應(yīng)不同技術(shù)領(lǐng)域和社會(huì)發(fā)展對(duì)控制科學(xué)提出的新要求,我們必須發(fā)展新的控制模式。近年來,在傳統(tǒng)控制中加人邏輯推理和啟發(fā)式知識(shí),將傳統(tǒng)控制理論與模糊邏輯拋光機(jī)的智能控制。賦耘金相研磨機(jī)磨盤直徑有200mm、230mm、250mm、300mm可選!大直徑的研磨盤會(huì)增加試樣在給定時(shí)間內(nèi)的運(yùn)動(dòng)距離。例如,轉(zhuǎn)速一樣時(shí),試樣在直徑10英寸或直徑12英寸(250或300mm)研磨盤上的運(yùn)動(dòng)距離,分別是在8英寸(200mm)直徑研磨盤上運(yùn)動(dòng)距離的。因此當(dāng)使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盤時(shí),建議將時(shí)間減少為8英寸(200mm)研磨盤的80%或67%。大直徑的研磨機(jī)的試樣制備時(shí)間要短,但耗材消耗稍多,所以大直徑的研磨機(jī)更適合試樣數(shù)量多試樣尺寸大的地方使用。廣西單點(diǎn)加壓金相磨拋機(jī)拋光時(shí)間大概多久